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三星新建5nm晶圆厂:先进EUV技术 2021年投产

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    随着时间迈入2020年中,以台积电和三星为代表的芯片半导体也从7nm逐步向5nm进发,实际上麒麟1020和苹果A14芯片便是根据台积电5nm工艺,表现相较7nm将会更上一层楼。


    很明显在7nm年代,三星是落后于台积电的,不过这家巨头好像想在5nm年代弯道超车,近日据媒体报道,三星宣布将于汉城南部的平泽市建造全新的5nm晶圆厂。

    该工厂是三星在韩国国内的第六条晶圆代工产线,将使用先进的极紫外光微影(ExtremeUltravioletlithography,EUV)制程技能,拿7nmEUV工艺比照,三星5nmEUV工艺的功能提高10%,功耗降低了20%,逻辑面积功率提高25%。

    三星表明这座工厂将于2021年下半年投产,产品主要使用于5G网络和高效能运算方面。

    三星的野心不止于此,在规划中的3nm年代,三星决断抛弃了FinFET,押宝GAA盘绕栅极晶体管技能,试图反超台积电。
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